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HORIBA/堀場SLIA-300二氧化硅分析儀/濃度計，滿足以 0.01µg/L (0.01 ppb) 的較高靈敏度測量超低密度二氧化硅的客戶需求，采用了一種新的“長光路徑長度測量單元”，能夠對超低密度二氧化硅進行高靈敏度測量，同時還提供緊湊的桌面型號，以提高實用性。該產(chǎn)品具有自診斷等一系列標準功能以及高速響應和高靈敏度等新的性能改進，為半導體生產(chǎn)制程中的純水工藝提供了更強的支持。

HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀，二氧化硅（SiO2）的管理對于防止水垢的形成至關重要。這是因為渦輪機中存在的水垢會降低發(fā)電效率，尤其是對火力發(fā)電廠和核電廠，用于測量鍋爐水和純水中的微量二氧化硅。